4月20日上午，拓荆科技股份有限公司首次公开发行A股科创板上市仪式顺利举行，证券代码688072。

拓荆科技股份有限公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。

公司通过在薄膜沉积设备这一半导体核心设备细分领域的积累和快速发展，已经成为国内半导体设备行业的领军企业，三次获得中国半导体行业协会颁发的“中国半导体设备五强企业”称号。公司设备以优异的薄膜性能、具有竞争力的生产成本、高效的售后服务，赢得了广泛的市场空间。目前，公司已形成覆盖二十余种工艺型号的薄膜沉积设备，满足下游客户晶圆制造产线多种薄膜沉积工艺需求，公司产品已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储等国内主流晶圆厂产线。

临芯投资祝贺拓荆科技在科创板成功上市，坚定看好拓荆科技“建立世界领先的薄膜设备公司”的愿景。期待公司未来在提升国产高端半导体设备的研发及产业化水平、扩大国产设备市场占有率、拓展技术应用领域、开拓国际市场等方面做出卓越贡献。